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第670章 第二步:覆海!破晓 A220 EUV光刻机,陈总的新筹码!

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大厅里异常安静,只能听到通风系统低沉的嗡鸣。

工程师们穿着全套无尘洁净服,像手术室里的医生,在设备周围轻缓走动,进行着最后的检查。

“老板,各分系统自检完毕,真空机组随时可以启动。”

林南的声音略带沙哑,冲着陈延森汇报道。

陈延森点了点头道:“按计划执行,逐步建立光路真空。”

命令下达后,控制室内的气氛瞬间绷紧。

巨大的真空泵组开始工作,发出低沉的咆哮。

显示屏上,代表光路内部真空度的数字,呈现断崖式的下跌趋势:0.01 Pa、0.0001 Pa、0.000001 Pa,向着高真空迈进。

所有人的心都提到了嗓子眼!

极致的真空环境是EUV光源传输的前提,任何一个微小的泄漏,都会导致前功尽弃。

不知过了多久!

汪象朝突然大声喊道:“真空度稳定在0.0000006帕斯卡!已达预设值!”

控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动,有人轻轻握了握拳。

第一步,成功了!

为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下?

这是因为EUV光波长极短,极易被包括空气在内的所有物质吸收。

在真空环境中,可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射,从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。

若处于非真空环境,EUV光会在传输过程中大幅衰减,无法满足光刻所需的能量强度。

这一模块的核心技术,是由章延杰牵头,联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。

因此,他比任何人都紧张,生怕出现纰漏,拖了团队的后腿。

“启动光源预热,功率设定为最低档位。”

陈延森语气平静地宣布下一道指令。

令人紧张的时刻到来!

这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源(MCDE-EUV光),即将被唤醒!

如果一切正常,它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段,进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。

时间一分一秒地过去。

主监控屏上,一个原


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