如此大情况下，智云微电子也更倾向于先进工艺的推进和产能扩充上……成熟工艺现在内卷的厉害，利润降低了很多，智云微电子已经不太看得上这些成熟工艺的订单了。
丁成军介绍着智云微电子的情况，而徐申学则是看着这个十二纳米工艺以及十四纳米工艺的每月四十万片的产能规划上。
他稍微算了算，这个产能大体上是够用了，不需要再进行额外的投入了……现在真投入进行大规模扩充，过两年都得产能过剩，产能利用率不足了。
重点还是现在的十纳米工艺以及未来的七纳米工艺。
十纳米工艺的话，目前的产能规划不多，只有每月五万片的水平，前期是主要用于S803芯片的生产，然后适当生产一些GF1芯片，EYQ4芯片，但是后两者的产能占用是比较低的。
这个是典型的过渡工艺，智云微电子也好，智云半导体也好，都没有打算在这一领域里投入太大的资源，等到S系列芯片的产能迁移更先进的等效七纳米工艺后，这一工艺节点将会用于生产其他算力芯片，包括更先进的APO显卡芯片等，也不用担心产能浪费。
智云集团真正投入重大资源的乃是等效七纳米工艺！
丁成军这个时候也介绍道：“我们智云微电子在等效七纳米工艺里投入甚大，除了原来的第二十五厂里的两条产线，规划产能每月五万片外。”
“我们智云微电子去年底又正式启动了第二十八厂计划，计划在深城基地里建设一座月产能达到五万片，工艺水平达到等效七纳米工艺的芯片工厂，预计投资达到七十多亿美元。”
“最终达到每月十万片的等效七纳米工艺，用于满足S系列芯片，W系列芯片以及更新一代的各类AI芯片的生产！”
“不过采用DUV浸润式光刻机的等效七纳米工艺产能规划，到每月十万片已经是差不到到极限了，主要是因为采用DUV浸润式光刻机生产等效七纳米工艺芯片，成本将会非常昂贵，除了S系列芯片，W系列芯片还有AI芯片外，其他各类芯片其实是无法承担如此昂贵的成本的。”
“盲目使用DUV浸润式光刻机扩充等效七纳米工艺的产能，未来可能会导致产能利用率不足！”
“我们在等效七纳米工艺的产能规划上，更多的还是期望与海湾科技那边的EUV光刻机的技术突破。”
“海湾科技那边，已经开始制造第一台EUV光刻机的原型机了，其设计参数就是用来制造等效
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